等离子刻蚀机与沉积设备

RIE反应离子刻蚀机（双腔）

FR-G800(RIE) 反应离子刻蚀机是半导体工艺中的核心设备之一。在半导体制造工艺中，它利用等离子体能量对硅片进行精细加工，是制造微电子器件的关键步骤。等离子刻蚀机具有高度的精度，可以在微观水平上创建极其复杂的图案。等离子体蚀刻机在半导体行业中的应用非常广泛。它不仅可以用于蚀刻半导体材料，如硅和磷等，还可以用于制造芯片和电路。此外，反应离子刻蚀机还在微电子、微机电系统(MEMS)和纳米技术应用制造等领域发挥着重要作用。

RIE刻蚀机

-20℃-100℃

2、3、4、6、8寸晶圆