电子元件、PCB清洗、IC芯片半导体硅片等表面清洁、活化增强绑定性等；
提高晶粒与焊盘导电胶的粘附性能、焊膏浸润性能、LED封装；
等离子体清洗能有效去除键合区的表面污染物并使其粗糙程度增加，提高引线的键合拉力，极大的提高封装器件的可靠性；
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等离子清洗机
GD-5小型等离子清洗机
设备采用PLC+触摸屏控制，操作简单易维护，产品主要适用于小规模生产、科学实验；腔体材质采用316不锈钢、进口铝合金材质，耐腐蚀，腔体可以根据客户产品需求定制；进口针阀精密流量控制计，两路工艺反应气体通道；独特的电极结构，确保等离子体的均匀性； GD-5 40KHz/13.56MHz AC220V(±10V)
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等离子刻蚀机与沉积设备
PECVD等离子化学气相沉积设备
PECVD是半导体行业中常用的一种薄膜沉积技术，用于生产高质量的薄膜层，如介电层、低k介质材料等，这些薄膜对于提高半导体器件的性能和可靠性至关重要。在光电子器件的生产中，PECVD技术被用于沉积高质量的介电薄膜和光学薄膜，以制造激光器、光学调制器、光纤传感器等器件。PECVD也被用于硅基光电子器件的生产，这些器件在光通信和集...
查看所有产品 - USC干式超声波除尘清洗机
USC干式超声波除尘清洗机
USC干式超声波除尘清洗机
1、非接触式结构避免材料损伤。超声波可打破空气粘滞层，彻底清除极小颗粒（1.6um以上）的灰尘。2、从除尘单元吹出的气流得到充分的应用，控制了整个气流和真空，从而保证了持续的清除性能不受材料厚度的影响。3、高效的气流控制，一些低压气流也能得到应用，减小了损耗。4、闭环系统不会破坏生产车间（洁净室）的气流平衡。5、不需要高额的消...
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等离子表面处理机
PM-V84旋转大气等离子表面处理机
可与客户生产线联机实现自动化生产；可选配多重类型喷嘴，使用范围广泛；使用压缩空气或氮气；喷嘴采用无皮带式静音结构；采用低温等离子冷弧放电技术；安全环保不产生任何污染物； PM-V84 18-25KHz AC220V(±10V)
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宽幅等离子处理机
FR-L235线型等离子清洗机
小型等离子模组，可根据产品的规格定做，应用于各种材料表面清洁、活化等；不分处理对象的基材类型，如金属、塑料、玻璃、高分子材料等均可进行处理；可与生产线结合连续操作；成本低效率高，全程干燥处理不产生任何污染物； FR-L235 13.56MHz AC220V(±10V)
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在线式自动清洗机
DL-600在线往复式等离子表面处理机
可应用于液晶面板行业 STN/TFT/OLED/LTPS、触控面板、光电元件、PCB/FPC行业、太阳能行业、触控面板行业，以及电子元件封装贴合前清洁、 LED封装等等 DL-600 最大宽度560mm 氮化硅刻蚀AC220V(±10V)
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