设备采用PLC+触摸屏控制,操作简单易维护,产品主要适用于小规模生产、科学实验;腔体材质采用316不锈钢、进口铝合金材质,耐腐蚀,腔体可以根据客户产品需求定制;进口针阀精密流量控制计,两路工艺反应气体通道;独特的电极结构,确保等离子体的均匀性; GD-5 40KHz/13.56MHz AC220V(±10V)查看所有产品
PECVD是半导体行业中常用的一种薄膜沉积技术,用于生产高质量的薄膜层,如介电层、低k介质材料等,这些薄膜对于提高半导体器件的性能和可靠性至关重要。在光电子器件的生产中,PECVD技术被用于沉积高质量的介电薄膜和光学薄膜,以制造激光器、光学调制器、光纤传感器等器件。PECVD也被用于硅基光电子器件的生产,这些器件在光通信和集...查看所有产品
1、非接触式结构避免材料损伤。超声波可打破空气粘滞层,彻底清除极小颗粒(1.6um以上)的灰尘。2、从除尘单元吹出的气流得到充分的应用,控制了整个气流和真空,从而保证了持续的清除性能不受材料厚度的影响。3、高效的气流控制,一些低压气流也能得到应用,减小了损耗。4、闭环系统不会破坏生产车间(洁净室)的气流平衡。5、不需要高额的消...查看所有产品
可与客户生产线联机实现自动化生产;可选配多重类型喷嘴,使用范围广泛;使用压缩空气或氮气;喷嘴采用无皮带式静音结构;采用低温等离子冷弧放电技术;安全环保不产生任何污染物; PM-V84 18-25KHz AC220V(±10V)查看所有产品
小型等离子模组,可根据产品的规格定做,应用于各种材料表面清洁、活化等;不分处理对象的基材类型,如金属、塑料、玻璃、高分子材料等均可进行处理;可与生产线结合连续操作;成本低效率高,全程干燥处理不产生任何污染物; FR-L235 13.56MHz AC220V(±10V)查看所有产品
可应用于液晶面板行业 STN/TFT/OLED/LTPS、触控面板、光电元件、PCB/FPC行业、太阳能行业、触控面板行业,以及电子元件封装贴合前清洁、 LED封装等等 DL-600 最大宽度560mm 氮化硅刻蚀AC220V(±10V)查看所有产品
功率密度大,高稳定性,可用于大规模连续生产;
适合各种形状产品,通用性高;
良好的安全性,多功能安全保护;
可按客户需求定制腔体尺寸和层数;
自主研发集成控制系统软件,PLC+触摸屏控制,操作便捷;
产品名称 | 真空等离子清洗机 |
产品型号 | GD-30 |
控制系统 | PLC+触摸屏 |
电源频率 | 40kHz/13.56MHz |
供电电源 | AC380V(±10V) |
电源功率 | 2000W(可调) |
气体路数 | 2 路比例阀流量控制 |
过程控制 | 自动与手动方式 |
内腔尺寸 | 350×320×320mm |
内腔材质 | 不锈钢316、铝合金(可选) |
载物规格 | W300*D265mm 共5层 |
外形尺寸 | 870×740×1540 mm( (长×深×高) |
腔体容积 | 30L |
真空度 | 30Pa |
可通入气体 | 氩气、氧气、氮气、空气、氢+氮气(混合气体)等 |
GD-30真空等离子清洗机
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