设备采用PLC+触摸屏控制,操作简单易维护,产品主要适用于小规模生产、科学实验;腔体材质采用316不锈钢、进口铝合金材质,耐腐蚀,腔体可以根据客户产品需求定制;进口针阀精密流量控制计,两路工艺反应气体通道;独特的电极结构,确保等离子体的均匀性; GD-5 40KHz/13.56MHz AC220V(±10V)查看所有产品
PECVD是半导体行业中常用的一种薄膜沉积技术,用于生产高质量的薄膜层,如介电层、低k介质材料等,这些薄膜对于提高半导体器件的性能和可靠性至关重要。在光电子器件的生产中,PECVD技术被用于沉积高质量的介电薄膜和光学薄膜,以制造激光器、光学调制器、光纤传感器等器件。PECVD也被用于硅基光电子器件的生产,这些器件在光通信和集...查看所有产品
1、非接触式结构避免材料损伤。超声波可打破空气粘滞层,彻底清除极小颗粒(1.6um以上)的灰尘。2、从除尘单元吹出的气流得到充分的应用,控制了整个气流和真空,从而保证了持续的清除性能不受材料厚度的影响。3、高效的气流控制,一些低压气流也能得到应用,减小了损耗。4、闭环系统不会破坏生产车间(洁净室)的气流平衡。5、不需要高额的消...查看所有产品
可与客户生产线联机实现自动化生产;可选配多重类型喷嘴,使用范围广泛;使用压缩空气或氮气;喷嘴采用无皮带式静音结构;采用低温等离子冷弧放电技术;安全环保不产生任何污染物; PM-V84 18-25KHz AC220V(±10V)查看所有产品
小型等离子模组,可根据产品的规格定做,应用于各种材料表面清洁、活化等;不分处理对象的基材类型,如金属、塑料、玻璃、高分子材料等均可进行处理;可与生产线结合连续操作;成本低效率高,全程干燥处理不产生任何污染物; FR-L235 13.56MHz AC220V(±10V)查看所有产品
可应用于液晶面板行业 STN/TFT/OLED/LTPS、触控面板、光电元件、PCB/FPC行业、太阳能行业、触控面板行业,以及电子元件封装贴合前清洁、 LED封装等等 DL-600 最大宽度560mm 氮化硅刻蚀AC220V(±10V)查看所有产品
功能强:改性作用仅发生在材料表面,不改变基体固有性能;
适用广:不分处理对象的基材类型,如金属、塑料、玻璃、高分子材料等均可进行处理;
易操作:工艺简单,操作方便,生产可控性强且稳定性高;
节能、环保:用气成本低,全程干燥的处理方式,不消耗水资源、无需添加化学药剂、不产生污染。
名称 | 项目 | 参数 |
在线式等离子主机 | 电源 | AC220V,50/60HZ |
等离子功率 | 100-2000W(可调节) | |
重量 | 260KG | |
真空泵 | 电源 | AC220V,50/60HZ |
工艺气体 | 可用气体 | N2,CDA,O2,等(处理使用的特殊气体) |
流水线规格 | 流水线速度 | 0-4M/MIN |
流水线材质 | SUS304 | |
流水线尺寸 | 1085MM(L)*380MM(W) | |
控制与报警 | 控制系统 | IO控制/RS485控制 |
报警系统 | 压力检测、功率检测、过载保护、感应器位置限位,抽真空延时报警,等离子异常报警输出 |
在线式全自动真空等离子清洗机